二氧化硅拋光液

　　

氧化硅拋光液是以高純度硅溶膠為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石等的拋光加工

產(chǎn)品介紹

根據(jù)不同的拋光要求可分為不同粒度（10~150 nm）的產(chǎn)品。根據(jù)pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。

 高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的（可以生產(chǎn)140 nm）

 粒度可控，根據(jù)不同需要，可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品（60-120 nm）

 高純度（Cu含量小于50 ppb），有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污

高平坦度加工，本品拋光利用SiO2的膠體粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化加工

---

產(chǎn)品組成

成份	含量（w%）
SiO2	15～30
Na2O	≤0.3
重金屬雜質(zhì)	≤50 ppb

---

應(yīng)用領(lǐng)域

1、 光通訊領(lǐng)域，配合公司專門為光纖連接器開發(fā)的拋光產(chǎn)品，能達(dá)到超精細(xì)拋光效果，拋光后連接器端面沒有劃傷和缺陷，3D指標(biāo)和反射衰減指標(biāo)達(dá)到國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。

2、 硬盤基片的拋光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均勻、分散性好、平坦化效率高等優(yōu)點(diǎn)。

3、 硅晶圓、藍(lán)寶石等半導(dǎo)體及襯底材料的粗拋和精拋，具有拋光速率高，拋光后易清洗，表面粗糙度低，能夠得到總厚偏差（TTV）極小的質(zhì)量表面。

4、其他領(lǐng)域的應(yīng)用，如不銹鋼、光學(xué)玻璃等領(lǐng)域，拋光后能達(dá)到良好的拋光效果。

---

環(huán)保健康安全注意事項(xiàng)：

l 車間內(nèi)必須保持良好的通風(fēng)狀況；

l 避免放置在兒童能接觸到的地方，如與眼睛或皮膚接觸，請(qǐng)用大量清水沖洗；

l 在使用時(shí)請(qǐng)勿進(jìn)食或吸煙；

l 切勿將廢棄拋光劑排放入下水道、水體或土壤，廢置拋光液應(yīng)符合當(dāng)?shù)丨h(huán)保標(biāo)準(zhǔn)來處理；

       l 使用前可參閱安全技術(shù)說明書。